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在2020年的时候，我国的光刻机属于什么水平?
光刻机是芯片制造过程中的重要机器，光刻机的先进程度决定了芯片的质量。而世界上最顶尖光刻机仍旧是荷兰的ASML掌握，ASML占有了全球超过80％的市场份额，并且单台7nm光刻机售价已经超过了6亿美元。
我国光刻机最高技术仍旧是上海微电子研究所的90nm工艺，它的SMEE200系列光刻机、300系列光刻机、500系列光刻机、600系列光刻机只能够达到90nm工艺水平。而像江苏无锡影幻半导体公司、合肥芯硕半导体公司都只能够拥有200nm工艺的光刻机量产能力。
表面上来看90nm与28纳米以下工艺差不了多少，事实上它们确实天差地别。为什么要这样去说？可以来看这样一句话：光刻机堪称人类智慧集大成的产物，它被称为现代光学工业之花。从这一句话就可以知道，光刻机技术有多难突破。
有一年上海微电子装备公司总经理贺荣明去德国考察时，那里的工程师这样对他说，就算我们给你们全套的图纸，你们仍旧做不出来先进的光刻机。（这一点与当初的苏联政府对我国态度比较相似）
为什么他们敢这样说？并不是瞧不起，而是因为一台光刻机它的内部由几万个精密零件、几百个执行器传感器、千万行代码组成的超复杂思维系统，它的内部器件运动精度误差不超过一根头发丝的千分之一。这就像坐在一架超音速飞行的飞机上时，拿着线头穿进另一架飞机上的针孔。
1、美国和一些欧盟国家支持
荷兰ASML光刻机的发展离不开美国和欧盟国家的支持，例如德国给它提供了先进的机械工艺以及蔡司镜头，而在光刻机光源方面，是由美国进行提供。蔡司镜头大家都知道，技术封闭相当的严重。据说蔡司工厂，祖孙三代在同一家公司的同一个职位，技术根本不外传，镜片材质要做到均匀，需几十年到上百十年技术积淀。
2、技术细分精明
光刻机需要上万个零部件和各种高端技术，荷兰的ASML对此做了非常精确的细分。它先后去投资了很多很多公司，例如现在ASML占据了德国蔡司的24.9％股份，又收购了一系列美国先进光源公司。这也就保证了它有足够的公司实力支撑它，不缺技术。
3、强大技术研发
华为和ASML是一家非常像的公司，都是非常重视技术研发投入。2019年 ASML全球销售额大概是21亿欧元左右，而它的研发费用支出就达到了4.8亿欧元，研发费用占营收的比例达到22.8%。正是因为由如此大的投入，才成就了它的今天。
4、荷兰本身的原因
2015年，在南京光电所，终于成功研制出微米级别光刻机！
在2018年，又一鼓作气，成功研制出纳米级别的沉浸光刻机，在实验室最低能刻画出6纳米这么微小的核心芯片。
目前已经与上海SMEE形成战略伙伴，很快就可以达到纳米光刻的量产。
我国芯片一直落后西方国家，芯片的落后就是光刻机的落后，所以西方国家就垄断了光刻机市场。他们说，研发高端光刻机比研发核弹还难，这话确实不假。我们看一下荷兰生产的ASML高端光刻机有多少国家参与，就知道它的难度了。荷兰生产的ASML光刻机，它的光源技术来自美国，光学设备来自日本，机械工艺和蔡司镜头来自德国，轴承来自瑞典，阀件来自法国，制造技术来自台积电和三星，它的内部零件就有10万多个，怪不得外国人敢说，就算他们把图纸给我们，我们也造不出高端光刻机来。看来，外国人太不了解中国人了，他越说中国人制造不出高端光刻机，中国人就越快能把光刻机造出来给他们看。
其实，中国很早就研发了光刻机，由于当时效益来的太慢，所以中途停了十几年，正常各类芯片都依赖进口。十五期间，科技部把光刻机作为国家首要科研项目，并在2002年将它列入国家863重大攻关计划。这几年，美国为了打压中国，阻止中国高科技发展，发起了华为之战，利用国家力量阻止华为发展，断供所有高科技芯片。大家应该知道，华为芯片大部分进口西方。由于高端芯片是由光刻机制造出来的，他们认为我国目前还没有自主研发的高科技光刻机，正因为这样，美国就想卡华为脖子。然而，让美国人失望的是，华为早有准备，华为海思高端芯片研究早已经走在世界前列，能和高通，三星比肩。今年，华为发布的麒麟900已经突破到5纳米精度，这就是华为人的自豪，也是中国人的自豪。
中国高科技企业很多，对光刻机研发的企业更是卯足了劲，他们相信，外国人能做到的，中国人一定能做到。这不，2020年下半年，中国光刻机龙头企业----上海微电子集团公司近期发布了重大消息，他们研发的28纳米光刻机横空出世。这个一个振奋人心的好消息，国人为之欢呼，科技界为之祝贺，外国人为之震惊。28纳米光刻机通过一定技术，可以实现14纳米，10纳米和7纳米工艺制作，是当前中国最先进的光刻机，技术水平已经踏上了世界前列。虽然它和荷兰的ASML的高端光刻机有一些差距，但它足以满足国内高端芯片制作需求，是个重大突破，计划2021年就可量产使用。
由于西方对中国高科技打压，本计划15-20年研发出高端光刻机的计划又要提前了。这就是西方人越嘲笑我们做不到，我们就越快做给他们看，中国人从来就不服输，因为没有任何困难可以阻挡中国人。我相信，要不了几年，中国自主研发的最高端光刻机就可以问世，那时，它将震惊全世界。
2020年我国光刻机现在属于什么水平?详细数据，多少纳米？光刻机在芯片制造中具有非常重要的作用，就是因为这个关键设备，国内的高端芯片特别是手机芯片制造瓶颈一直没有突破。虽然国内光刻机的发展时间并不短，但其水平在国际上一直处于低端，最近两三年由于国内芯片研发设计突飞猛进，所以对芯片制造的要求越来越高，光刻机引起了极大的关注。
目前全球研发制造光刻机水平大致为：最高端为荷兰ASML公司高端光刻机，几乎垄断了全球高端光刻机市场，目前可以制造7nm芯片。中低端光刻机基本是日本尼康和佳能，可以制造75nm-14nm左右的芯片，占据中端市场比较多。国内的上海微电子集团（SMEE）主要是占据低端市场，特别是国内市场80%低端光刻机都是SMEE的设备，目前只能制造90nm的芯片。目前正在攻克制造65nm制程的技术。
从上面可以看出国内与最顶尖的ASML公司的高端光刻机的距离相当大，所以国内几个光刻机研发机构也在全力研发光刻机，特别是光源部分取得了不错的突破。目前荷兰ASML最新的光刻机光源波长为13.5nm极紫外光（EUV），可以制造14nm、10nm、7nm制程的芯片生产。
但国内中科院光电所最近取得了重大突破，采用365nm的近紫外光源，可以实现22nm制程，结合双重曝光技术之后，未来可以制造10nm级别的芯片。可以说与目前90nm制程相比已经是飞跃的发展了，但即使如此，也与ASML的距离相差不小，目前ASML已经可以要突破5nm制程技术。但即使这样的成果，还不一定更能够够应用于复杂的IC需要的图形。
不过这只是实验室研究的成果，真正要把中科院光电所的实验成果进行到实用阶段，还有不少的时间。要量产，不只是光源问题，还有诸如精密轴承、精密镜头等相关产业链的发展，这方面还需要不少时间，因为国内的相关零部件很难满足如此高精密、高品质的。
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