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昆山星光树脂制品公司是做什么的?
公司所属行业橡胶和塑料制品业。
星光树脂制品(昆山)有限公司于1993年11月12日成立。法定代表人SAIGO TAKASHI,公司位于江苏省昆山市周市镇陆杨迎宾西路2号。
公司经营范围包括:生产合成树脂制品及其它相关产品、合成树脂制品原料的深加工产品、合成树脂成形模具、精密模具及其相关金属制品、酚醛树脂等工程塑料及塑料合金的新材料和用此类新材料生产的相关产品(包括精密塑料轴承及其它相关产品);销售自产产品;开发、设计模具及模具制品等。
中国光刻机距离顶尖水平还有较大差距,那么同样关键的蚀刻机处在什么地位?
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在光刻机上,国外的技术掐住了我们的咽喉;美国更是联合一部分国家制定了《瓦森纳协定》,严禁向中国出售最新的几代设备。而目前在光刻机市场,占据80%的ASML,自然也遵守着《瓦森纳协定》,特别是ASML已经成为全球唯一一家能向客户供应最先进EUV光刻机的设备商,让我们在光刻机上备受掣肘!
如果说光刻机严重的制约了我国半导体的发展的话,那么蚀刻机方面,我们的压力可能就没有那么大了。我们知道,光刻机是把电路图投影到覆盖有光刻胶的硅片上面;而刻蚀机再把刚才画了电路图的硅片上的多余电路图腐蚀掉。所以,两样设备是相辅相成的,缺一不可。
如果说,光刻的过程是硅圆表面涂上一层光刻胶,通过紫外光透过掩膜照射到硅圆表面,我们发现,在被照射的部分腐蚀之后,形成了我们需要的电路。而
而蚀刻就需要通过将已经光刻好的晶圆,切除掉多余的部分,剩下电路结构。其实,我国在光刻机上虽然表现不佳,但是在蚀刻机上,却表现相对优异了。比如,我们知道的中微半导体。在央视的《大国重器》中,就对它进行了介绍。
中微半导体于2004年由尹志尧博士代领的海归人才创办,它推出的7nm、10nm芯片介质刻蚀设备已经打入台积电的量产线,占据中芯国际50%以上的新增采购额。
2018年12月份,中微半导体成功攻克下5nm蚀刻机,并且通过了台积电的技术认证,可用于实际生产,可以说我们在蚀刻机上,又再一次获得了成功。
我们也要看到,虽然我们在蚀刻机上的成绩突破了国际的技术封锁,在光刻机上这个问题没有那么简单。因为目前仅仅是完成了5nm蚀刻机的自主研发,但是还差一个很重的设备,也就是光刻机上,目前的上海微电子等企业和ASML还是有很大的距离,ASML已实现7 nm EUV光刻先进工艺,而上海微电子由于起步较晚且技术积累薄弱,目前技术节点为90 nm,且多以激光成像技术为主。
因此,我们在看到蚀刻机的优势情况下,也应该提升光刻机的水平,在未来这种局势也会被改变,我们相信在我国的坚持下,和蚀刻机一样,一定会带来不一样的成绩!
蚀刻机在全世界处于领先地位,跟荷兰的ASML在光刻机的地位差不多,光刻机的水平,可以排在第二位,仅次于ASML,想不到吧!第三位属于日本,佳能和尼康都有光刻机,但是精度只能达到90纳米,中国国产光刻机已经可以达到28纳米精度。
我国的光刻机处于低端水平,刻蚀机水平位于世界前沿,下文具体说一说。
我国光刻机的最高水平是上海微电子的90nm制程,世界顶尖的光刻机是ASML的7nm EUV光刻机,ASM已经开始研制5nm制程的光刻机。相对来说,我国在光刻机制造领域与国际先进水平有很大的差距,高端光刻机全部依赖进口,我国的中芯国际今年将会引进ASML最新的7nm制程的EUV光刻机,一定程度上减小了与台积电、三星的差距。
我国的刻蚀机技术领先,中微半导体的介质刻蚀机、硅通孔刻蚀机位于全球前三,中微半导体的介质刻蚀机赢进入台积电7nm、10nm的生产线,中微半导体的刻蚀机制造工艺达到了5nm,已经通过了台积电的验证。,我国大陆晶圆代工厂中芯国际50%以上的刻蚀机采用了中微半导体。
提到中微半导体,不得不说尹志尧博士,尹志尧在美国硅谷从事半导体行业20多年,在世界最大的半导体企业担任副总裁。2004年时,60岁的尹志尧放弃美国百万年薪,带领三十人的团队,回国创办了中微半导体,在芯片制造设备领域与巨头直接竞争。
刻蚀机是芯片制造设备中重要性仅次于光刻机的第二重要设备,光刻机相当于画匠,刻蚀机相当于雕工。
光刻机和蚀刻机一直都是当前最热的话题,可以说光刻机是芯片制造的魂,蚀刻机是芯片制造的魄,要想制造高端的芯片,这两个东西都必须顶尖。
生产芯片的过程很复杂,简单的一句话总结这两种机器各自的作用:光刻机把电路图投影到覆盖有光刻胶的硅片上面,刻蚀机再把刚才画了电路图的硅片上的多余电路图腐蚀掉。
通过两种机器各自的作用,就能判断出来光刻机和蚀刻机哪个的技术难度大了,一个是刻图像一个是腐蚀去掉多余的部分,所以光刻机的难度大于蚀刻机。目前我国已经能生产顶尖技术的蚀刻机了,但是高端的光刻机还生产不出来。很多网友也都知道这个结果,那么我国能搞定的高端蚀刻机在世界上到底处于什么样的地位呢?
中微半导体
虽然目前蚀刻机市场的份额占比依旧是西方厂商优势明显,但在诸多蚀刻机制造厂中,有一家中国蚀刻机制造企业-中微半导体,已经成功打破西方技术垄断。其不仅是中国半导体行业领军者,更是中国唯一的蚀刻机巨头。据公开资料显示,中微半导体成立于2004年,多年来一直坚持自主研发,早在2018年时该公司在全球范围内的相关专利申请量就达到1200多项。
中微半导体早在2017年4月便领先世界巨头IBM两个星期,提前宣布攻克5nm蚀刻机制造技术的喜讯。如今,中微半导体旗下的5nm蚀刻机更是顺利通过晶圆代工领域鼻祖台积电的认证,目前该公司已经开始向台积电供货。
世界领先的中国蚀刻机
我国的刻蚀机技术领先,中微半导体的介质刻蚀机、硅通孔刻蚀机位于全球前三,中微半导体的介质刻蚀机赢进入台积电7nm、10nm的生产线,中微半导体的刻蚀机制造工艺达到了5nm,已经通过了台积电的验证。我国大陆晶圆代工厂中芯国际50%以上的刻蚀机采用了中微半导体。
特别是在介质刻蚀设备领域,中微半导体的电容型介质刻蚀设备已进入全球这个市场的前三名,仅次于东京电子和Lam Research。北方华创方面,它是由北京七星电子和北京北方微电子两家公司在2015年重组而来,2017年才更名为北方华创。北方华创旗下有半导体装备、真空装备、新能源锂电设备及精密元器件四个事业群,并非像中微半导体那样专注于半导体IC和LED的领域,但这四个事业群也都发展成为了技术领先的事业群。
相比光刻机领域,中国在半导体刻蚀设备领域的水平还是很不错的,至少在技术方面,已经接近甚至达到国际领先的水平。但是,我们仍然需要戒骄戒躁,相信大家也能够看到,尽管在刻蚀设备技术方面,我国已经达到了先进水平,但是在完整、成熟的产业链体系打造上,我们还有很大的追赶空间。
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